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牛津仪器研讨会拟讨论纳米级等离子工艺

放大字体  缩小字体 发布日期:2013-04-15  浏览次数:591
核心提示: 等离子刻蚀和沉积系统制造商牛津仪器公司(Oxford Instruments)日前宣布,在北京和台湾举办两场为期一天的研讨会,将聚焦于纳米
      等离子刻蚀和沉积系统制造商牛津仪器公司(Oxford Instruments)日前宣布,在北京和台湾举办两场为期一天的研讨会,将聚焦于纳米级等离子工艺。

这两场研讨会之前,牛津仪器曾在中国举办一系列研讨会,吸引了逾两百名参与者。

这两场研讨会预计将分别于今年五月十四日在中国北京举行,五月十六日在台湾新竹工业技术研究院(ITRI)举行。

除了牛津仪器公司等离子技术的处理和应用专家,该研讨会还将包括中国大陆、台湾和欧洲的多名演讲嘉宾和专家的发言。

每个为期一天的计划都将涉及一系列主题,包括原子层沉积(ALD)、光伏(PV)、深硅刻蚀、发电设备、高亮度发光二极管(HBLED)和离子束技术。

中国科学院北京半导体研究所杨福华表示:“两年前我们曾与牛津仪器举办过此类研讨会,获得巨大成功,逾一百人参加。不同领域的发言人的演讲内容极佳,并且信息量相当大。这两场研讨会是在非正式场合下发现新技术的绝佳方式,并且有大量时间与专家交流。”

开幕式发言人牛津仪器等离子技术亚洲区业务经理Jeffrey Seah表示:“我们期待在中国大陆和台湾的这两场研讨会有大量观众参与,并且非常荣幸如此多著名的发言人已接受我们的邀请,讲述他们在等离子工艺领域的工作。我们的研讨会为等离子工艺领域提供一个重要的机遇,走到一起分享他们的经验,并且更多了解各自领域领先的国际专家。”

根据此前在北京和上海研讨会的成功,牛津仪器预计学术界和生产部门将热情参与。

 
 
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